Invention Publication
- Patent Title: 特别地用在掩膜对准器中的卡盘
- Patent Title (English): Chuck, in particular for use in a mask aligner
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Application No.: CN201380067778.8Application Date: 2013-12-04
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Publication No.: CN104885209APublication Date: 2015-09-02
- Inventor: S·汉森 , T·许尔斯曼 , K·申德勒
- Applicant: 苏斯微技术光刻有限公司
- Applicant Address: 德国加兴
- Assignee: 苏斯微技术光刻有限公司
- Current Assignee: 苏斯微技术光刻有限公司
- Current Assignee Address: 德国加兴
- Agency: 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司
- Agent 尹振启
- Priority: 13150260.1 2013.01.04 EP
- International Application: PCT/EP2013/075513 2013.12.04
- International Announcement: WO2014/106557 EN 2014.07.10
- Date entered country: 2015-06-24
- Main IPC: H01L21/68
- IPC: H01L21/68 ; G03F9/00

Abstract:
一种用于将第一平面衬底(例如晶片)与第二平面衬底(例如掩膜)平行排布的卡盘,包括:具有用于放置第一平面衬底的上表面的顶板、底板、至少一个配置用于测量顶板上表面与第二平面衬底一个表面之间距离的距离测量传感器;以及至少三个与顶板和底板接触的线性致动器。一种用于特别地通过卡盘设定卡盘顶板上的第一平面衬底(例如晶片)与第二平面衬底(例如掩膜)之间间距的方法,包括步骤:在至少一个点处测量第一平面衬底的厚度;通过卡盘的至少一个距离测量传感器测量第二平面衬底的表面与顶板的上表面之间的距离;以及采用卡盘的至少三个线性致动器,优选结合卡盘的至少三个弹簧轴承调整第一平面衬底或卡盘的顶面与第二平面衬底表面之间的倾斜度。
Public/Granted literature
- CN104885209B 特别地用在掩膜对准器中的卡盘 Public/Granted day:2018-06-26
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IPC分类: