发明授权
- 专利标题: 一种具有双层优化层的磁电阻元件
-
申请号: CN201510152898.9申请日: 2015-04-01
-
公开(公告)号: CN104733606B公开(公告)日: 2017-12-15
- 发明人: 郭一民 , 陈峻 , 肖荣福
- 申请人: 上海磁宇信息科技有限公司
- 申请人地址: 上海市嘉定区城北路235号二号楼二层
- 专利权人: 上海磁宇信息科技有限公司
- 当前专利权人: 上海磁宇信息科技有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市嘉定区城北路235号二号楼二层
- 代理机构: 上海容慧专利代理事务所
- 代理商 于晓菁
- 主分类号: H01L43/08
- IPC分类号: H01L43/08 ; H01L43/10
摘要:
本发明提供了一种具有双层优化层的磁电阻元件,包括依次相邻的参考层、势垒层、记忆层、第一晶格优化层、第二晶格优化层和基础层;所述参考层的磁化方向不变且磁各向异性垂直于层表面;所述记忆层的磁化方向可变且磁各向异性垂直于层表面;所述势垒层位于所述记忆层和所述参考层之间且分别与所述记忆层和所述参考层相邻;所述第一晶格优化层与所述记忆层相邻,所述第一晶格优化层是具有NaCl晶格结构的材料层且其(100)晶面平行于基底平面;所述第二晶格优化层是包含至少一种掺杂元素的NaCl晶格材料层且其(100)晶面平行于基底平面;进一步还包括磁性校正层和自旋极化稳定层,它们依次设置在所述基础层和所述第二晶格优化层之间。
公开/授权文献
- CN104733606A 一种具有双层优化层的磁电阻元件 公开/授权日:2015-06-24
IPC分类: