发明授权
CN104638083B GaN基LED外延结构及其制作方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: GaN基LED外延结构及其制作方法
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申请号: CN201510058640.2申请日: 2015-02-04
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公开(公告)号: CN104638083B公开(公告)日: 2018-11-09
- 发明人: 琚晶 , 马后永 , 李起鸣
- 申请人: 映瑞光电科技(上海)有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区临港产业区新元南路555号金融中心211室
- 专利权人: 映瑞光电科技(上海)有限公司
- 当前专利权人: 映瑞光电科技(上海)有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区临港产业区新元南路555号金融中心211室
- 代理机构: 上海思微知识产权代理事务所
- 代理商 智云
- 主分类号: H01L33/32
- IPC分类号: H01L33/32 ; H01L33/00
摘要:
本发明提供一种GaN基LED外延结构及其制作方法,外延结构包括:依次层叠的成核层、未掺杂GaN层、N型GaN层、超晶格结构、多量子阱结构、AlGaN层、低温P型AlInGaN层、P型电子阻挡层及P型GaN层,P型GaN层为由第一子P型GaN层及第二子P型GaN层交替组成的周期性结构,第一子P型GaN层与第二子P型GaN层具有不同的Mg掺杂浓度分布。将GaN基LED外延结构内的P型GaN层设计为由具有不同Mg掺杂浓度分布的第一子P型GaN层及第二子P型GaN层交替组成的周期性结构,通过调整P型GaN层的Mg掺杂方式可以改变Mg的激化能量,从而提高了Mg的活化率,降低了P型GaN层的电阻率,进而达到降低GaN基LED正向电压的目的。
公开/授权文献
- CN104638083A GaN基LED外延结构及其制作方法 公开/授权日:2015-05-20
IPC分类: