发明授权
- 专利标题: 光学投影阵列曝光系统
-
申请号: CN201380029365.0申请日: 2013-06-04
-
公开(公告)号: CN104335117B公开(公告)日: 2016-09-07
- 发明人: 大卫·马克尔 , 托马斯·莱迪格 , 杰弗瑞·卡斯基 , 陈正方
- 申请人: 应用材料公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 应用材料公司
- 当前专利权人: 应用材料公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
- 代理商 李晓冬
- 优先权: 61/655,475 2012.06.04 US; 13/909,076 2013.06.04 US
- 国际申请: PCT/US2013/044145 2013.06.04
- 国际公布: WO2013/184700 EN 2013.12.12
- 进入国家日期: 2014-12-03
- 主分类号: G03B27/72
- IPC分类号: G03B27/72 ; G02B6/10
摘要:
公开了一种空间光调制器成像系统。该系统包括照明模块、投影模块及照明‑投影光束分离器,该照明模块被配置为提供照明光,其中,该照明光呈现由该空间光调制器成像系统成像的数据图案;该投影模块被配置为将该照明光投射至基板;该照明投影光束分离器耦接于该照明模块与该投影模块之间;其中,该照明‑投影光束分离器被配置为接收沿照明光轴的该照明光,并将所接收的照明光沿投影光轴传送至该投影模块,其中该照明光轴与该投影光轴实质上彼此平行。
公开/授权文献
- CN104335117A 光学投影阵列曝光系统 公开/授权日:2015-02-04