- 专利标题: 相位差膜叠层体、相位差膜叠层体的制造方法以及相位差膜的制造方法
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申请号: CN201380014270.1申请日: 2013-02-26
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公开(公告)号: CN104169757B公开(公告)日: 2017-08-18
- 发明人: 森田崇 , 藤井康平 , 木平智一 , 山中俊介 , 波多野拓
- 申请人: 日本瑞翁株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 日本瑞翁株式会社
- 当前专利权人: 日本瑞翁株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市嘉元知识产权代理事务所
- 代理商 张永新
- 优先权: 2012-058876 20120315 JP
- 国际申请: PCT/JP2013/055001 2013.02.26
- 国际公布: WO2013/136975 JA 2013.09.19
- 进入国家日期: 2014-09-15
- 主分类号: G02B5/30
- IPC分类号: G02B5/30 ; B32B27/30 ; G02F1/13363
摘要:
本发明提供一种相位差膜叠层体、其制造方法以及使用相位差膜叠层体的相位差膜的制造方法,所述相位差膜叠层体是对具有P1层和与所述P1层接触设置的P2层的拉伸前膜进行拉伸而成的相位差膜叠层体,所述P1层由树脂p1形成,所述树脂p1包含具有正的固有双折射值的聚苯醚及具有负的固有双折射值且具有间规结构的聚苯乙烯类聚合物,所述P2层由树脂p2形成,所述树脂p2为丙烯酸树脂或含有含脂环式结构聚合物的树脂,其中,在树脂p1中,所述聚苯醚的含量/所述聚苯乙烯类聚合物的含量的重量比为35/65~45/55。
公开/授权文献
- CN104169757A 相位差膜叠层体、相位差膜叠层体的制造方法以及相位差膜的制造方法 公开/授权日:2014-11-26