发明授权
CN104134631B 阵列基板的制作方法及设备
失效 - 权利终止
- 专利标题： 阵列基板的制作方法及设备
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申请号： CN201410338911.5申请日： 2014-07-16
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公开(公告)号： CN104134631B公开(公告)日： 2016-11-23
- 发明人: 黎午升
- 申请人： 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人： 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人： 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构： 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 许静; 黄灿
- 主分类号： H01L21/77
- IPC分类号： H01L21/77 ; H01L21/67 ; G02F1/1333
摘要：
本发明提供了一种阵列基板的制作方法及设备，属于平板显示技术领域。其中，阵列基板的制作方法包括：对基板上将要涂覆不透光感光材料的表面的边缘位置以及对位位置进行疏油处理；在经过疏油处理的基板表面涂覆亲油性的不透光感光材料。本发明的技术方案能够解决在COA工艺中需手动清洗阵列基板上栅金属层的对位标记部分对应的BM材料的问题，进而提高显示面板的产能和良率。
公开/授权文献
- CN104134631A 阵列基板的制作方法及设备 公开/授权日：2014-11-05
IPC分类:
