本发明涉及一种用于微光刻投射照明的设备(10)、用于检查基底(20)的表面的设备(110)及其相关方法。一种用于微光刻投射曝光的设备(10)，包括：光学系统(18)，用于通过利用成像辐射(15)投射掩模结构(16)而将所述掩模结构(16)成像到基底(20)的表面(21)上，所述光学系统(18)具有至少一个反射光学元件(22)；以及测量光束路径(36)，用于引导测量辐射(34)，所述测量光束路径(36)在所述光学系统(18)内延伸，使得在所述设备(10)的操作期间，所述测量辐射(34)在所述至少一个反射光学元件(22‑6；22‑3、22‑4、22‑5、22‑6)上反射，并且还在所述基底(20)的表面(21)上反射。