发明公开
- 专利标题: 半导体装置
- 专利标题(英): Semiconductor device
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申请号: CN201410252218.6申请日: 2012-01-31
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公开(公告)号: CN103996670A公开(公告)日: 2014-08-20
- 发明人: 山田启寿 , 石田正明
- 申请人: 株式会社东芝
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 株式会社东芝
- 当前专利权人: 东芝存储器株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 徐殿军
- 优先权: 2011-019273 2011.01.31 JP
- 分案原申请号: 2012100216219 2012.01.31
- 主分类号: H01L23/498
- IPC分类号: H01L23/498 ; H01L23/552
摘要:
根据一个实施例,半导体装置包括:电路基板、半导体元件、密封树脂层和导电屏蔽层。该电路基板包括:绝缘层、形成设置在绝缘层的上表面侧上的第一互连层的多个互连、形成设置在绝缘层的下表面侧上的第二互连层的多个互连,以及从绝缘层的上表面穿通到下表面的多个过孔。半导体元件安装在电路基板的上表面侧上。导电屏蔽层覆盖密封树脂层和电路基板端部的一部分。多个过孔中的任何一个与导电屏蔽层电连接。
公开/授权文献
- CN103996670B 半导体装置 公开/授权日:2017-08-22
IPC分类: