浅沟槽隔离结构及其形成方法
摘要:
本发明公开一种浅沟槽隔离结构及其形成方法,其浅沟槽隔离结构包含一上绝缘部与一下绝缘部,该下绝缘部包含一第一绝缘体以及位于该第一绝缘体周围的一绝缘层,该上绝缘部包含一第二绝缘体以及位于该第二绝缘体周围的一缓冲层,部分的该缓冲层中介于该第一绝缘体与该第二绝缘体之间,且该缓冲层的外周壁与该第一绝缘体的周壁齐平。
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