发明授权
- 专利标题: 三维相变化存储器装置及其制造方法
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申请号: CN201310287374.1申请日: 2013-07-10
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公开(公告)号: CN103928609B公开(公告)日: 2016-12-28
- 发明人: 龙翔澜
- 申请人: 旺宏电子股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹科学工业园区力行路16号
- 专利权人: 旺宏电子股份有限公司
- 当前专利权人: 旺宏电子股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹科学工业园区力行路16号
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 任岩
- 优先权: 61/751,954 2013.01.14 US 13/865,636 2013.04.18 US
- 主分类号: H01L45/00
- IPC分类号: H01L45/00 ; H01L27/24
摘要:
本发明公开了一种三维相变化存储器装置及其制造方法,该三维相变化存储器装置用以在每个存储单元中储存多位;存储单元是以多个电阻的非重叠范围所代表,电阻的非重叠范围是以存储单元中的相变化存储材料的不同的非晶相厚度来建立。一存取阵列可位于多个导电层之下,导电层通过绝缘层彼此分离且与存取阵列分离。导电柱阵列延伸通过多个导电层且接触对应的存取阵列。相变化存储元件介于导电柱与导电层之间。电路利用编程脉冲,在存储单元中编程数据,编程脉冲具有脉冲形状,是依据编程之前的存储单元电阻范围与被储存的数据值决定。
公开/授权文献
- CN103928609A 三维相变化存储器装置及其制造方法 公开/授权日:2014-07-16
IPC分类: