- 专利标题: 回流膜、焊料凸块形成方法、焊料接合的形成方法以及半导体装置
-
申请号: CN201280052668.X申请日: 2012-10-26
-
公开(公告)号: CN103907179B公开(公告)日: 2017-07-07
- 发明人: 宫内一浩 , 铃木直也 , 高野希 , 山下幸彦
- 申请人: 日立化成株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 日立化成株式会社
- 当前专利权人: 日立化成株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 钟晶; 於毓桢
- 优先权: 2011-235479 20111026 JP 2011-235484 20111026 JP 2011-235489 20111026 JP
- 国际申请: PCT/JP2012/077759 2012.10.26
- 国际公布: WO2013/062095 JA 2013.05.02
- 进入国家日期: 2014-04-25
- 主分类号: H01L21/60
- IPC分类号: H01L21/60 ; B23K1/00 ; B23K1/20 ; B23K3/06 ; B23K31/02 ; B23K35/14 ; B23K35/26 ; C22C12/00 ; C22C13/00 ; C22C28/00 ; H05K3/34
摘要:
本发明涉及一种回流膜,其特征在于,其为包含能够溶解于溶剂的热塑性树脂和焊料粒子的膜,所述焊料粒子为分散在所述膜中的状态;还涉及一种焊料凸块形成方法,包含如下工序:(A)在基板的电极面侧放置所述回流膜的工序、(B)进一步放置并固定平板的工序、(C)加热工序、以及(D)溶解除去所述回流膜的工序。据此提供一种回流膜,使焊料成分通过自组织化偏集在基板的电极上,从而保存性、运输性、以及使用时的操作性优异,能够仅对电极选择性地形成焊料凸块或者焊料接合。
公开/授权文献
- CN103907179A 回流膜、焊料凸块形成方法、焊料接合的形成方法以及半导体装置 公开/授权日:2014-07-02
IPC分类: