本发明公开了用于修复晶体管的方法和装置，包括：给PFET的源极施加第一电压，给PFET的栅极施加第二电压，以及给PFET的漏极施加第三电压达预定时间。其中第一电压大于第二电压，并且第二电压大于第三电压。本发明人已经确定，通过施加这些电压，被捕获于栅极电介质内的空穴将会减少。以此方式，可以修复半导体结构或者使其恢复至或接近最初的操作特性。另一种实施例是通过给NFET的漏极施加第一电压、给NFET的栅极施加第二电压以及给NFET的源极施加第三电压达预定时间来修复NFET晶体管的方法和装置。第一电压大于第二电压，而第二电压大于第三电压。如同在第一实施例中所示出的，本发明的目的是修复晶体管。在NFET的情形中，电子在正常的操作期间聚积于栅极电介质上。通过按照所描述的方式来施加电压，可以修复晶体管以使其在处于或接近于最初的规范下操作。