发明授权
- 专利标题: 二维无V型槽光纤阵列装置及其制作方法
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申请号: CN201210554615.X申请日: 2012-12-19
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公开(公告)号: CN103885118B公开(公告)日: 2017-03-29
- 发明人: 黄华 , 李强 , 余富荣 , 胡家泉 , 李朝阳 , 陈贵明
- 申请人: 四川飞阳科技有限公司
- 申请人地址: 四川省成都市西南航空港经济开发区长城路一段185号
- 专利权人: 四川飞阳科技有限公司
- 当前专利权人: 四川飞阳科技有限公司
- 当前专利权人地址: 四川省成都市西南航空港经济开发区长城路一段185号
- 代理机构: 广州华进联合专利商标代理有限公司
- 代理商 陈振
- 主分类号: G02B6/08
- IPC分类号: G02B6/08
摘要:
本发明公开了一种二维无V型槽光纤阵列装置及其制作方法,所述光纤阵列装置,包括基板、盖板和M×N根光纤,其中:N为光纤层数,M为每层光纤阵列中的光纤数量,相邻两层光纤阵列中的光纤数量相等,所述基板与所述盖板均为平板;第0层光纤阵列作为底层固定在所述基板上,第S层光纤阵列中的光纤固定在第S-1层光纤阵列中的相邻光纤之间形成的凹槽内,与所述S-1层光纤阵列中的光纤错位相切;其中,S=1,2…N。本发明公开的二维无V型槽光纤阵列装置,避免了使用昂贵的带有V型槽的基板,大大降低了光纤阵列的批量生产成本,有效利用了基板和盖板之间的空间体积,提高了光纤阵列的密度,在光束整形技术和平面光波导技术中有着非常重要的应用。
公开/授权文献
- CN103885118A 二维无V型槽光纤阵列装置及其制作方法 公开/授权日:2014-06-25