发明授权
- 专利标题: 包括半导体二极管的晶体管单元阵列
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申请号: CN201310691281.5申请日: 2013-12-17
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公开(公告)号: CN103872042B公开(公告)日: 2016-11-30
- 发明人: P.内勒 , M.聪德尔
- 申请人: 英飞凌科技股份有限公司
- 申请人地址: 德国瑙伊比贝尔格市坎芘昂1-12号
- 专利权人: 英飞凌科技股份有限公司
- 当前专利权人: 英飞凌科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 德国瑙伊比贝尔格市坎芘昂1-12号
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 马丽娜; 徐红燕
- 优先权: 13/716784 2012.12.17 US
- 主分类号: H01L27/02
- IPC分类号: H01L27/02 ; H01L27/06
摘要:
包括半导体二极管的晶体管单元阵列。半导体装置的一个实施例包括密集沟槽晶体管单元阵列。密集沟槽晶体管单元阵列包括在半导体本体中的多个晶体管单元。多个晶体管单元中的每个的晶体管台面区域的宽度w3和多个晶体管单元的每个的第一沟槽的宽度w1满足下面的关系:w3
公开/授权文献
- CN103872042A 包括半导体二极管的晶体管单元阵列 公开/授权日:2014-06-18
IPC分类: