形成硬盘用平坦化膜的组合物
摘要:
本发明的课题是提供可以防止钴成分等磁性材料扩散至填充部(非磁性层)的形成硬盘用平坦化膜的组合物。作为解决本发明的课题的方法涉及一种形成硬盘用平坦化膜的组合物,其特征在于,包含光聚合性被覆材料,并且在该被覆材料中含有相对于每1摩尔苯环为1~90摩尔%的乙烯基,所述光聚合性被覆材料含有:选自具有来源于二乙烯基芳香族化合物的单元结构的均聚物和具有该单元结构的共聚物中的至少1种聚合物、或该聚合物与光聚合性化合物的混合物。光聚合性化合物为具有丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基或乙烯基的化合物。聚合物为还包含加聚性化合物作为共聚成分的共聚物。一种硬盘的制造方法,其包括下述工序:第1工序,在磁性体上形成凹凸;第2工序,用形成平坦化膜的组合物被覆该凹凸;第3工序,通过蚀刻来平坦化,使磁性体表面露出。
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