发明公开
CN103765512A 形成硬盘用平坦化膜的组合物
失效 - 权利终止
- 专利标题: 形成硬盘用平坦化膜的组合物
- 专利标题(英): Flattening film forming composition for hard disk
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申请号: CN201280042926.6申请日: 2012-09-18
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公开(公告)号: CN103765512A公开(公告)日: 2014-04-30
- 发明人: 加藤拓 , 原口将幸 , 小泽雅昭
- 申请人: 日产化学工业株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 日产化学工业株式会社
- 当前专利权人: 日产化学工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 段承恩; 田欣
- 优先权: 2011-207129 2011.09.22 JP
- 国际申请: PCT/JP2012/073816 2012.09.18
- 国际公布: WO2013/042655 JA 2013.03.28
- 进入国家日期: 2014-03-04
- 主分类号: G11B5/65
- IPC分类号: G11B5/65 ; B05D7/00 ; B05D7/24 ; C09D4/00 ; C09D4/02 ; C09D5/00 ; C09D7/12 ; G11B5/72 ; G11B5/84
摘要:
本发明的课题是提供可以防止钴成分等磁性材料扩散至填充部(非磁性层)的形成硬盘用平坦化膜的组合物。作为解决本发明的课题的方法涉及一种形成硬盘用平坦化膜的组合物,其特征在于,包含光聚合性被覆材料,并且在该被覆材料中含有相对于每1摩尔苯环为1~90摩尔%的乙烯基,所述光聚合性被覆材料含有:选自具有来源于二乙烯基芳香族化合物的单元结构的均聚物和具有该单元结构的共聚物中的至少1种聚合物、或该聚合物与光聚合性化合物的混合物。光聚合性化合物为具有丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基或乙烯基的化合物。聚合物为还包含加聚性化合物作为共聚成分的共聚物。一种硬盘的制造方法,其包括下述工序:第1工序,在磁性体上形成凹凸;第2工序,用形成平坦化膜的组合物被覆该凹凸;第3工序,通过蚀刻来平坦化,使磁性体表面露出。
公开/授权文献
- CN103765512B 形成硬盘用平坦化膜的组合物 公开/授权日:2017-06-30
IPC分类: