发明授权
CN103681388B 制造半导体器件的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 制造半导体器件的方法
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申请号: CN201310430539.6申请日: 2013-09-18
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公开(公告)号: CN103681388B公开(公告)日: 2017-08-29
- 发明人: 东野朋子 , 森永优一 , 坪井和哉 , 和田环
- 申请人: 瑞萨电子株式会社
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 瑞萨电子株式会社
- 当前专利权人: 瑞萨电子株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理商 李兰; 孙志湧
- 优先权: 2012-205174 20120919 JP
- 主分类号: H01L21/60
- IPC分类号: H01L21/60 ; H01L23/498
摘要:
本发明涉及制造半导体器件的方法。提供一种具有改善质量的半导体器件。本发明的半导体器件包括具有:其上具有半导体芯片的带式衬底、围绕半导体芯片放置的多个焊接区焊盘、用于将半导体芯片的电极焊盘电耦合至焊接区焊盘的多个导线,以及提供在带式衬底的下表面上的多个端子部。带式衬底的焊接区焊盘和半导体芯片之间的第一区的表面粗糙度的局部尖峰之间的平均距离小于带式衬底的焊接区焊盘和第一区之间的第二区的表面粗糙度的局部尖峰的平均距离。
公开/授权文献
- CN103681388A 制造半导体器件的方法 公开/授权日:2014-03-26
IPC分类: