发明授权
CN103361722B 多晶硅锭及其制备方法、多晶硅片和多晶硅铸锭用坩埚
失效 - 权利终止
- 专利标题: 多晶硅锭及其制备方法、多晶硅片和多晶硅铸锭用坩埚
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申请号: CN201310311124.7申请日: 2013-07-23
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公开(公告)号: CN103361722B公开(公告)日: 2016-03-02
- 发明人: 雷琦 , 胡动力 , 何亮 , 张学日 , 董一迪
- 申请人: 江西赛维LDK太阳能高科技有限公司
- 申请人地址: 江西省新余市高新经济开发区赛维工业园专利办公室
- 专利权人: 江西赛维LDK太阳能高科技有限公司
- 当前专利权人: 江西赛维LDK太阳能高科技有限公司
- 当前专利权人地址: 江西省新余市高新经济开发区赛维工业园专利办公室
- 代理机构: 广州三环专利代理有限公司
- 代理商 郝传鑫; 熊永强
- 主分类号: C30B28/06
- IPC分类号: C30B28/06 ; C30B29/06 ; C30B33/00
摘要:
本发明提供了多晶硅锭的制备方法,包括以下步骤:在坩埚内壁喷涂氮化硅层之前或之后,在所述坩埚的侧壁内侧上设置阻隔层,所述阻隔层为硅粉涂层、或石英粉涂层、或硅粉与石英粉混合涂层,所述硅粉和所述石英粉的纯度为99.99%以上;然后在所述坩埚内设置熔融状态的硅料;控制所述坩埚内的温度沿垂直与所述坩埚底部向上的方向逐渐上升形成温度梯度,使所述熔融状态的硅料开始结晶;待全部结晶完后,经退火冷却得到多晶硅锭。本发明还提供了通过该制备方法获得的高质量的多晶硅锭,以及利用所述多晶硅锭制备获得的多晶硅片和多晶硅铸锭用坩埚。该制备方法制得的多晶硅锭靠坩埚壁区域的晶粒较小、均匀、规则、位错密度低且杂质少。
公开/授权文献
- CN103361722A 多晶硅锭及其制备方法、多晶硅片和多晶硅铸锭用坩埚 公开/授权日:2013-10-23
IPC分类: