发明授权
CN103255381B 溅射靶及通过旋转轴向锻造形成该溅射靶的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 溅射靶及通过旋转轴向锻造形成该溅射靶的方法
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申请号： CN201310169232.5申请日： 2005-05-06
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公开(公告)号： CN103255381B公开(公告)日： 2016-08-10
- 发明人: 约翰.P.梅特雷 , 罗伯特.B.福特 , 小查尔斯.E.威克沙姆
- 申请人： 卡伯特公司
- 申请人地址： 美国马萨诸塞州
- 专利权人： 卡伯特公司
- 当前专利权人： 卡伯特公司
- 当前专利权人地址： 美国马萨诸塞州
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 宋莉
- 优先权： 60/568,592 2004.05.06 US
- 分案原申请号： 2005800229541 2005.05.06
- 主分类号： C23C14/34
- IPC分类号： C23C14/34 ; B21J5/02
摘要：
公开了一种使用旋转轴向锻造制造溅射靶的方法。其它热机械工序可以在锻造步骤之前和/或之后使用。进一步描述了一种可以具有独特晶粒尺寸和/或晶体结构的溅射靶。
公开/授权文献
- CN103255381A 溅射靶及通过旋转轴向锻造形成该溅射靶的方法 公开/授权日：2013-08-21
IPC分类:
