- 专利标题: 焊料转印基材的制造方法、焊料预涂方法、及焊料转印基材
- 专利标题(英): Production method for solder transfer base material, solder precoating method, and solder transfer base material
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申请号: CN201180050882.7申请日: 2011-08-25
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公开(公告)号: CN103180079A公开(公告)日: 2013-06-26
- 发明人: 樱井大辅
- 申请人: 松下电器产业株式会社
- 申请人地址: 日本大阪府
- 专利权人: 松下电器产业株式会社
- 当前专利权人: 松下知识产权经营株式会社
- 当前专利权人地址: 日本大阪府
- 代理机构: 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 张鑫
- 优先权: 2010-249576 2010.11.08 JP
- 国际申请: PCT/JP2011/004731 2011.08.25
- 国际公布: WO2012/063386 JA 2012.05.18
- 进入国家日期: 2013-04-22
- 主分类号: B23K1/20
- IPC分类号: B23K1/20 ; B23K1/00 ; B23K3/06 ; H01L21/60 ; H05K3/24 ; H05K3/34 ; B23K101/40
摘要:
本发明提供一种焊料转印基材的制造方法,该焊料转印基材的制造方法不会破坏具有脆性的电介质膜的半导体元件的脆性的电介质膜,且相对于电子元器件或电路基板能可靠地形成合适厚度的焊料层。焊料转印基材的制造方法包括:在基材表面形成粘合层(2)的粘合层形成工序;在粘合层上以具有间隙的方式装载多个焊料粉(3),以形成焊料层的焊料层形成工序;以及将充填物(4)提供到形成在粘合层上的焊料粉的间隙中的充填物提供工序。
公开/授权文献
- CN103180079B 焊料转印基材的制造方法、焊料预涂方法、及焊料转印基材 公开/授权日:2016-03-30
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