发明授权
- 专利标题： 一种激光脉冲电镀系统
- 专利标题（英）： Laser pulse electroplating system
-
申请号： CN201210342253.8申请日： 2012-09-14
-
公开(公告)号： CN102817051B公开(公告)日： 2015-02-11
- 发明人: 杨盈莹 , 林学春 , 于海娟
- 申请人： 中国科学院半导体研究所
- 申请人地址： 北京市海淀区清华东路甲35号
- 专利权人： 中国科学院半导体研究所
- 当前专利权人： 中国科学院半导体研究所
- 当前专利权人地址： 北京市海淀区清华东路甲35号
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 任岩
- 主分类号： C25D5/00
- IPC分类号： C25D5/00 ; C25D5/18
摘要：
本发明公开了一种激光脉冲电镀系统，包括：脉冲激光器、脉冲发生控制器、衰减器、电子快门、扩束器、反射镜、CCD实时监测系统、光学振镜、聚焦物镜、电解池、三维移动台和脉冲电镀电源。本发明采用脉冲电镀电源和脉冲激光器，结合脉冲电镀电源电镀和脉冲激光电镀的工作方式，超越高频脉冲电镀电源的性能限制，控制脉冲激光器发出的激光脉冲与脉冲电镀电源发出的电脉冲相匹配，提高镀层的加工效率和分辨率。应用领域包括激光电镀、激光刻蚀。
公开/授权文献
- CN102817051A 一种激光脉冲电镀系统 公开/授权日：2012-12-12
