- 专利标题: 表面活性添加剂和包含该表面活性添加剂的光刻胶组合物
- 专利标题(英): Surface active additive and photoresist composition comprising same
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申请号: CN201210243288.6申请日: 2012-05-28
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公开(公告)号: CN102796221B公开(公告)日: 2014-08-27
- 发明人: D·王 , C·吴 , 刘骢 , G·波勒斯 , C-B·徐 , G·G·巴克利
- 申请人: 罗门哈斯电子材料有限公司
- 申请人地址: 美国马萨诸塞州
- 专利权人: 罗门哈斯电子材料有限公司
- 当前专利权人: 罗门哈斯电子材料有限公司
- 当前专利权人地址: 美国马萨诸塞州
- 代理机构: 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 江磊
- 优先权: 61/490,825 2011.05.27 US
- 主分类号: C08F220/18
- IPC分类号: C08F220/18 ; C08F220/34 ; C08F220/28 ; C08F220/16 ; C08F220/36 ; C08F220/38 ; G03F7/004 ; G03F7/09
摘要:
本发明涉及表面活性添加剂和包含该表面活性添加剂的光刻胶组合物。一种聚合物,包含单体聚合的产物,所述单体包括:含有式(Ia)、式(Ib)或式(Ia)和(Ib)组合的含氮单体,和具有式(II)的可酸去保护单体:其中:a是0或1;每个Ra独立的是H、F、C1-C10烷基或者C1-C10氟化烷基,L1是直链或支链C1-C20亚烷基、或者单环、多环、或者稠合多环C3-C20亚环烷基,每个Rb独立的是H、C1-C10烷基、C3-C20环烷基、C3-C20杂环烷基、脂肪族C5-C20氧基羰基或者任选包括杂原子取代基的C1-C30酰基基团,其中每个Rb是独立的,或者至少一个Rb与相邻的Rb相连;LN是含氮的单环、多环、或者稠合多环C3-C20亚杂环烷基;X是H、C1-C10烷基、脂肪族C5-C20氧基羰基或任选包括杂原子取代基的C1-C30酰基基团;每个Rc独立的是C1-C10烷基、C3-C20环烷基、C3-C20杂环烷基,其中每个Rc是独立的或者至少一个Rc与相邻的Rc相连。
公开/授权文献
- CN102796221A 表面活性添加剂和包含该表面活性添加剂的光刻胶组合物 公开/授权日:2012-11-28
IPC分类: