本发明提供一种静电吸附载板，用于在制膜装置的反应腔室中固定被加工工件，包括载板主体，并且还包括设置于载板主体中的绝缘单元和至少一个静电吸附单元，其中，所述绝缘单元设置于所述载板主体与所述静电吸附单元之间，用以使二者之间电绝缘；所述载板主体接地；所述静电吸附单元连接至直流电源，以产生固定所述被加工工件的静电引力，从而在采用自下而上的方式镀膜时可以使被加工工件能够被固定在上述静电吸附载板的下表面。本发明还提供了应用该静电吸附载板的制膜设备及应用带有所述静电吸附载板的制膜设备的薄膜制备工艺，能够在被加工工件的下表面进行直接镀膜。这样既能够解决钝化效果不充分的问题，又能够避免颗粒的影响。