Invention Publication
- Patent Title: 双极性晶体管中的增益恢复
- Patent Title (English): Gain recovery in a bipolar transistor
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Application No.: CN201080054180.1Application Date: 2010-11-23
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Publication No.: CN102640416APublication Date: 2012-08-15
- Inventor: 杨志坚 , 王平川 , 冯凯棣
- Applicant: 国际商业机器公司
- Applicant Address: 美国纽约阿芒克
- Assignee: 国际商业机器公司
- Current Assignee: 格芯美国第二有限责任公司
- Current Assignee Address: 美国纽约阿芒克
- Agency: 北京市柳沈律师事务所
- Agent 周少杰
- Priority: 12/627,282 2009.11.30 US
- International Application: PCT/EP2010/068015 2010.11.23
- International Announcement: WO2011/064202 EN 2011.06.03
- Date entered country: 2012-05-30
- Main IPC: H03F1/30
- IPC: H03F1/30

Abstract:
一种恢复双极性晶体管中的增益的方法,包括:提供双极性晶体管,所述双极性晶体管包括发射极、集电极和在所述发射极和所述集电极处的结之间布置的基极;对于操作时间段用操作电压来反向偏压所述发射极和基极之间布置的结,使得所述晶体管的电流增益β劣化;使所述晶体管空闲;以及对于修复时间段(TR),在用第一修复电压(VBER)正向偏压所述发射极和所述基极之间布置的结时,且在至少部分地同时用第二修复电压(VCBR)反向偏压所述集电极和所述基极之间布置的结时,向所述基极中生成修复电流Ibr,使得至少部分地恢复所述增益。
Public/Granted literature
- CN102640416B 双极性晶体管中的增益恢复 Public/Granted day:2014-10-29
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