发明授权
- 专利标题: 一种集成电路用磷铜阳极的制备方法
- 专利标题(英): Preparation method of phosphorus-copper anode for integrated circuit
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申请号: CN201010581922.8申请日: 2010-12-06
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公开(公告)号: CN102485924B公开(公告)日: 2013-12-11
- 发明人: 高岩 , 王欣平 , 何金江 , 刘书芹 , 熊晓东
- 申请人: 有研亿金新材料股份有限公司
- 申请人地址: 北京市西城区新街口外大街2号
- 专利权人: 有研亿金新材料股份有限公司
- 当前专利权人: 有研亿金新材料股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市西城区新街口外大街2号
- 代理机构: 北京北新智诚知识产权代理有限公司
- 代理商 耿小强
- 主分类号: C22C9/00
- IPC分类号: C22C9/00 ; C22C1/03 ; C25D17/10
摘要:
本发明公开了一种集成电路用磷铜阳极的制备方法,采用高纯度石墨作为坩埚和模具材料,在高真空中频感应熔炼炉中熔化纯度为99.99%及以上的高纯铜铸锭,在1150~1300℃中加入含磷6~16wt.%的磷铜中间合金,加入磷铜中间合金与高纯铜铸锭的重量比为1∶50~600,在1150~1300℃下保温20~30min,再静置20分钟后,浇入石墨模具,得到磷铜合金铸锭;得到的磷铜合金铸锭切除铸锭冒口后,经过多向锻造和轧制,以及在300~600℃保温0.5~12小时再结晶处理后,经过表面处理,机械加工出集成电路用磷铜阳极。该方法制备的磷铜阳极具有杂质含量低,氧含量低,磷含量分布均匀,晶粒细小、均匀等特点。
公开/授权文献
- CN102485924A 一种集成电路用磷铜阳极的制备方法 公开/授权日:2012-06-06