发明公开
- 专利标题: 与碳纳米结构的光蚀刻划定的接触
- 专利标题(英): Photolithographically defined contacts to carbon nanostructures
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申请号: CN201080020748.8申请日: 2010-05-07
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公开(公告)号: CN102449748A公开(公告)日: 2012-05-09
- 发明人: 阿兰·T·小约翰松 , 莱恩·A·琼斯 , 塞缪尔·M·卡米斯
- 申请人: 宾夕法尼亚大学理事会
- 申请人地址: 美国宾夕法尼亚州
- 专利权人: 宾夕法尼亚大学理事会
- 当前专利权人: 宾夕法尼亚大学理事会
- 当前专利权人地址: 美国宾夕法尼亚州
- 代理机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理商 张颖; 樊卫民
- 优先权: 61/177,768 2009.05.13 US
- 国际申请: PCT/US2010/033968 2010.05.07
- 国际公布: WO2010/132284 EN 2010.11.18
- 进入国家日期: 2011-11-11
- 主分类号: H01L21/36
- IPC分类号: H01L21/36
摘要:
本发明描述了制造纳米结构、包括由碳纳米管构成的纳米结构的方法,和通过这些方法制备的纳米结构、器件和组件。
公开/授权文献
- CN102449748B 与碳纳米结构的光蚀刻划定的接触 公开/授权日:2015-06-17
IPC分类: