发明授权
- 专利标题: 半导体芯片及其制造方法
- 专利标题(英): Semiconductor chip and manufacturing method thereof
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申请号: CN201010621954.6申请日: 2010-12-29
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公开(公告)号: CN102315182B公开(公告)日: 2014-05-14
- 发明人: 黄见翎 , 黄英叡 , 林正怡 , 雷弋易 , 林正忠 , 刘重希
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹市
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹市
- 代理机构: 隆天国际知识产权代理有限公司
- 代理商 张浴月; 刘文意
- 优先权: 12/832,168 2010.07.08 US
- 主分类号: H01L23/48
- IPC分类号: H01L23/48 ; H01L23/31 ; H01L21/60 ; H01L23/00
摘要:
本发明实施例公开了一种半导体芯片及其制造方法,其中半导体芯片包含一导电凸块位于一半导体芯片上。提供一基材,其上具有一连接焊盘,该连接焊盘上具有一凸块下金属层。铜柱具有一顶面及凹型侧壁,该顶面具有一第一宽度。一镍层,具有一顶面及一底面,位于该铜柱的顶面上。该镍层的底面具有一第二宽度。第二宽度对第一宽度的比例为约0.93至1.07。一焊料位于该盖层的该顶面上。本发明可减少导电柱与焊料之间的界面因应力而产生的破裂。
公开/授权文献
- CN102315182A 半导体芯片及其制造方法 公开/授权日:2012-01-11
IPC分类: