涂覆显影装置和涂覆显影方法
摘要:
本发明提供一种抑制处理块的设置面积并且抑制装置的工作效率降低的技术。构成具备模式选择部的涂覆显影装置,上述模式选择部用于在由检查模块进行的检查中检查出基板异常时,基于存储在存储部的数据,从模式M1和M2中选择后续的基板的搬送模式。上述模式M1,确定显影处理用的单位块中处理过基板的模块,控制单位块用的搬送机构的动作,使得将后续的基板搬送到所确定的模块以外的模块,上述模式M2,确定处理过基板的显影处理用的单位块,控制交接机构的动作,使得将后续的基板搬送到所确定的显影处理用的单位块以外的显影处理用的单位块。
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