发明授权
- 专利标题: 涂覆显影装置和涂覆显影方法
- 专利标题(英): Coating and developing apparatus and method
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申请号: CN201110198010.7申请日: 2011-07-11
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公开(公告)号: CN102314081B公开(公告)日: 2014-12-17
- 发明人: 松冈伸明 , 宫田亮 , 林伸一 , 榎木田卓 , 富田浩 , 早川诚 , 吉田达平
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京尚诚知识产权代理有限公司
- 代理商 龙淳
- 优先权: 2010-156568 2010.07.09 JP
- 主分类号: G03F7/00
- IPC分类号: G03F7/00 ; H01L21/00 ; H01L21/677
摘要:
本发明提供一种抑制处理块的设置面积并且抑制装置的工作效率降低的技术。构成具备模式选择部的涂覆显影装置,上述模式选择部用于在由检查模块进行的检查中检查出基板异常时,基于存储在存储部的数据,从模式M1和M2中选择后续的基板的搬送模式。上述模式M1,确定显影处理用的单位块中处理过基板的模块,控制单位块用的搬送机构的动作,使得将后续的基板搬送到所确定的模块以外的模块,上述模式M2,确定处理过基板的显影处理用的单位块,控制交接机构的动作,使得将后续的基板搬送到所确定的显影处理用的单位块以外的显影处理用的单位块。
公开/授权文献
- CN102314081A 涂覆显影装置、涂覆显影方法和存储介质 公开/授权日:2012-01-11