- 专利标题： 一种电感耦合装置及应用该装置的等离子体处理设备
- 专利标题（英）： Inductance coupling apparatus and plasma processing equipment applying same
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申请号： CN201010216936.X申请日： 2010-06-23
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公开(公告)号： CN102300383B公开(公告)日： 2013-03-27
- 发明人: 韦刚
- 申请人： 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层
- 专利权人： 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
- 当前专利权人： 北京北方华创微电子装备有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层
- 代理机构： 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 张天舒; 陈源
- 主分类号： H05H1/46
- IPC分类号： H05H1/46 ; C23C14/48 ; C23C16/513
摘要：
本发明提供一种电感耦合装置，用于在工艺腔室内激发并维持等离子体，包括设置在工艺腔室内部的电感耦合线圈，与电感耦合线圈相连的射频电源以及调压电源。所述调压电源在工艺过程中向所述电感耦合线圈加载正偏压，以降低甚至消除电感耦合线圈附近的负自偏压，从而避免电感耦合线圈在工艺中被消耗以及造成晶片污染等的问题。本发明还提供一种应用上述电感耦合装置的等离子体处理设备。
公开/授权文献
- CN102300383A 一种电感耦合装置及应用该装置的等离子体处理设备 公开/授权日：2011-12-28
IPC分类:
