发明授权
CN102226087B 透明导电膜湿法蚀刻液组合物
失效 - 权利终止
- 专利标题： 透明导电膜湿法蚀刻液组合物
- 专利标题（英）： Transparent conductive film wet-process etching solution composition
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申请号： CN201110109547.1申请日： 2011-04-29
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公开(公告)号： CN102226087B公开(公告)日： 2013-09-04
- 发明人: 张军 , 常积东 , 李承孝
- 申请人： 西安东旺精细化学有限公司
- 申请人地址： 陕西省西安市高新区高新路枫叶广场A座1205室
- 专利权人： 西安东旺精细化学有限公司
- 当前专利权人： 西安东旺精细化学有限公司
- 当前专利权人地址： 陕西省西安市高新区高新路枫叶广场A座1205室
- 代理机构： 西安智邦专利商标代理有限公司
- 代理商 徐平
- 主分类号： C09K13/00
- IPC分类号： C09K13/00
摘要：
本发明提供一种透明导电膜湿法蚀刻液组合物。该透明导电膜湿法蚀刻液组合物包含(1)0.5-10wt％的草酸；(2)0.1-50wt％的乙酸；(3)0.01-10wt％的铵盐；(4)0.001-10wt％的表面活性剂；(5)余量水。该蚀刻液组合物蚀刻速率均匀稳定，无残留，不腐蚀配线。
公开/授权文献
- CN102226087A 透明导电膜湿法蚀刻液组合物 公开/授权日：2011-10-26
