发明公开
CN102218414A 光处理装置及光处理方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 光处理装置及光处理方法
- 专利标题(英): Optical irradiation equipment and optical irradiation method
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申请号: CN201110029588.X申请日: 2011-01-24
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公开(公告)号: CN102218414A公开(公告)日: 2011-10-19
- 发明人: 中岛明信 , 杉冈晋次 , 山口真典 , 藤次英树
- 申请人: 优志旺电机株式会社
- 申请人地址: 日本国东京都千代田区
- 专利权人: 优志旺电机株式会社
- 当前专利权人: 优志旺电机株式会社
- 当前专利权人地址: 日本国东京都千代田区
- 代理机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理商 谢丽娜; 关兆辉
- 优先权: 2010-016127 2010.01.28 JP
- 主分类号: B08B7/00
- IPC分类号: B08B7/00 ; B29C59/00 ; G03F7/00
摘要:
提供一种光处理装置及光处理方法,能够抑制被处理物的温度上升的同时进行紫外线照射处理。本发明的光处理装置,具备具有紫外线透过窗的框体以及配置于该框体内的准分子灯,其特征为:在上述紫外线透过窗的周围,具有与冷却用气体供给机构或冷却用气体吸气机构连接的气体流通口。并且,上述准分子灯具有:整体为扁平板状的放电容器;配置于该放电容器的一面的高电压侧电极;以及配置于该放电容器的另一面的接地侧电极,并且优选以上述放电容器的配置有上述高电压侧电极的一面与上述紫外线透过窗相对的方式配置。
公开/授权文献
- CN102218414B 光处理装置及光处理方法 公开/授权日:2015-03-11