发明授权
CN102209765B 磁盘基板用研磨液组合物
失效 - 权利终止
- 专利标题: 磁盘基板用研磨液组合物
- 专利标题(英): Polishing liquid composition for magnetic disk substrate
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申请号: CN200980144360.6申请日: 2009-11-04
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公开(公告)号: CN102209765B公开(公告)日: 2015-07-01
- 发明人: 大岛良晓 , 浜口刚吏 , 佐藤宽司 , 山口哲史 , 土居阳彦
- 申请人: 花王株式会社
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 花王株式会社
- 当前专利权人: 花王株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 雒运朴
- 优先权: 2008-285828 2008.11.06 JP; 2008-326364 2008.12.22 JP; 2008-326365 2008.12.22 JP
- 国际申请: PCT/JP2009/068837 2009.11.04
- 国际公布: WO2010/053096 JA 2010.05.14
- 进入国家日期: 2011-05-06
- 主分类号: C09K3/14
- IPC分类号: C09K3/14 ; B24B37/00 ; G11B5/84 ; C03C19/00
摘要:
本发明提供一种能够在不损害生产率的情况下减少研磨后的基板的划痕和表面粗糙度的磁盘基板用研磨液组合物、以及使用了该研磨液组合物的磁盘基板的制造方法。本发明涉及一种磁盘基板用研磨液组合物,其含有ΔCV值为0~10%的胶体二氧化硅和水,所述ΔCV值是CV30与CV90之差的值(ΔCV=CV30-CV90),所述CV30是将从采用动态光散射法在30°的检测角测得的散射强度分布得到的标准偏差除以根据所述散射强度分布得到的平均粒径再乘以100后得到的值,所述CV90是将从在90°的检测角测得的散射强度分布得到的标准偏差除以根据所述散射强度分布得到的平均粒径再乘以100后得到的值。
公开/授权文献
- CN102209765A 磁盘基板用研磨液组合物 公开/授权日:2011-10-05