Invention Grant
- Patent Title: 具有耗尽型MOS晶体管的半导体装置
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Application No.: CN201110086411.3Application Date: 2011-03-29
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Publication No.: CN102208445BPublication Date: 2016-03-30
- Inventor: 原田博文
- Applicant: 精工半导体有限公司
- Applicant Address: 日本千叶县
- Assignee: 精工半导体有限公司
- Current Assignee: 艾普凌科有限公司
- Current Assignee Address: 日本千叶县
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 何欣亭; 王忠忠
- Priority: 2010-076366 2010.03.29 JP
- Main IPC: H01L29/78
- IPC: H01L29/78 ; H01L29/10

Abstract:
得到改善的耗尽型MOS晶体管,其中包括:半导体衬底上的第一导电型的阱区;在阱区上形成的栅极绝缘膜;在栅极绝缘膜上形成的栅电极;在栅电极的两端形成的第二导电型的源极/漏极区;在源极/漏极区之间的栅极氧化膜下形成的第二导电型的低浓度杂质区;以及在源极/漏极区之间的第二导电型的低浓度杂质区之下形成的第一导电型的低浓度杂质区。
Public/Granted literature
- CN102208445A 具有耗尽型MOS晶体管的半导体装置 Public/Granted day:2011-10-05
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IPC分类: