发明公开
CN102082171A 半导体器件的电极以及制造电容器的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 半导体器件的电极以及制造电容器的方法
- 专利标题(英): Electrode of semiconductor device and method for fabricating capacitor
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申请号: CN201010271741.5申请日: 2010-09-03
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公开(公告)号: CN102082171A公开(公告)日: 2011-06-01
- 发明人: 都官佑 , 李起正 , 朴京雄 , 李正烨
- 申请人: 海力士半导体有限公司
- 申请人地址: 韩国京畿道
- 专利权人: 海力士半导体有限公司
- 当前专利权人: 海力士半导体有限公司
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道
- 代理机构: 北京弘权知识产权代理事务所
- 代理商 郭放; 黄启行
- 优先权: 10-2009-0117424 2009.11.30 KR
- 主分类号: H01L29/45
- IPC分类号: H01L29/45 ; H01L21/28 ; H01L29/92 ; H01L21/02
摘要:
本发明的半导体器件的电极包括TiCN层和TiN层。本发明的制造半导体器件电极的方法包括制备衬底、形成TiCN层和形成TiN层。
公开/授权文献
- CN102082171B 半导体器件的电极以及制造电容器的方法 公开/授权日:2015-12-02
IPC分类: