- 专利标题: 一种用于金属有机物化学气相沉积设备的进气喷头结构
- 专利标题(英): Air inlet spray head structure for metal-organic chemical vapor deposition equipment
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申请号: CN201010269018.3申请日: 2010-08-31
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公开(公告)号: CN101914762A公开(公告)日: 2010-12-15
- 发明人: 冉军学 , 胡国新 , 梁勇 , 王军喜 , 段瑞飞 , 曾一平 , 李晋闽
- 申请人: 中国科学院半导体研究所
- 申请人地址: 北京市海淀区清华东路甲35号
- 专利权人: 中国科学院半导体研究所
- 当前专利权人: 广东省中科宏微半导体设备有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区清华东路甲35号
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 周国城
- 主分类号: C23C16/455
- IPC分类号: C23C16/455 ; C23C16/18
摘要:
本发明公开了一种用于金属有机物化学气相沉积设备的进气喷头结构,该结构包括进气顶盘法兰和水冷匀气板,该进气顶盘法兰为一圆形金属盘状结构,中间为圆形凹坑,沿圆形凹坑径向用板条隔开,分为2n个扇形区,n为大于1的整数;该水冷匀气板分为有机源水冷匀气板和氢化物气体水冷匀气板,每一个扇形区对应一个水冷匀气板。利用本发明,可以使反应气体均匀的进入反应室内,使反应室内气体达到均匀生长的气流模式。
公开/授权文献
- CN101914762B 一种用于金属有机物化学气相沉积设备的进气喷头结构 公开/授权日:2013-03-06
IPC分类: