- 专利标题: 透光性电磁波屏蔽构件的制造方法、光滤波器及图像显示装置
- 专利标题(英): Process for producing transparent electroconductive member
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申请号: CN200880115847.7申请日: 2008-11-11
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公开(公告)号: CN101855679B公开(公告)日: 2013-08-14
- 发明人: 林宽之 , 后藤昌利 , 大塚廉太郎
- 申请人: 世联株式会社
- 申请人地址: 日本福井县
- 专利权人: 世联株式会社
- 当前专利权人: 世联株式会社
- 当前专利权人地址: 日本福井县
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 王永红
- 优先权: 2007-293872 2007.11.13 JP
- 国际申请: PCT/JP2008/070529 2008.11.11
- 国际公布: WO2009/063882 JA 2009.05.22
- 进入国家日期: 2010-05-13
- 主分类号: H01B13/00
- IPC分类号: H01B13/00 ; G09F9/00
摘要:
本发明的课题是提供可廉价制造透光性及导电性优异的透明导电性构件的方法。透明导电性构件的制造方法,其包含:(a)在透明基材上通过含还原剂的油墨进行图案印刷,形成含还原剂图案层的工序;其次,(b)在上述含还原剂图案层上,把含有通过还原能形成非电解镀敷催化剂的金属离子的金属离子溶液进行涂布,通过上述还原剂与金属离子的接触,还原该金属离子,形成非电解镀敷催化剂层的工序;然后,(c)在上述非电解镀敷催化剂层上,通过镀敷处理形成导电性金属层的工序。
公开/授权文献
- CN101855679A 透明导电性构件的制造方法 公开/授权日:2010-10-06