Invention Publication
CN101835921A 溅射用靶、薄膜的制造方法以及显示装置
无效 - 撤回
- Patent Title: 溅射用靶、薄膜的制造方法以及显示装置
- Patent Title (English): Sputtering target, method for producing thin film and display device
-
Application No.: CN200980100776.8Application Date: 2009-05-20
-
Publication No.: CN101835921APublication Date: 2010-09-15
- Inventor: 栗林正树
- Applicant: 佳能安内华股份有限公司
- Applicant Address: 日本神奈川县
- Assignee: 佳能安内华股份有限公司
- Current Assignee: 佳能安内华股份有限公司
- Current Assignee Address: 日本神奈川县
- Agency: 北京林达刘知识产权代理事务所
- Agent 刘新宇; 张会华
- Priority: 2008-133796 2008.05.22 JP
- International Application: PCT/JP2009/059242 2009.05.20
- International Announcement: WO2009/142223 JA 2009.11.26
- Date entered country: 2010-04-21
- Main IPC: C23C14/34
- IPC: C23C14/34
Abstract:
本发明提供溅射用靶、单晶性薄膜的制造方法以及显示装置。在通过磁控溅射来成膜LaB6薄膜时，改善所得到的LaB6薄膜的广域畴方向的单晶性。使用含有硼原子(B)、镧原子(La)以及碳原子(C)的溅射用靶。
Information query
IPC分类:
