发明公开
- 专利标题: 金属包覆的聚酰亚胺复合体、该复合体的制造方法以及电子电路板的制造方法
- 专利标题(英): Metal covered polyimide composite, process for producing the composite, and process for producing electronic circuit substrate
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申请号: CN200880111984.3申请日: 2008-09-16
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公开(公告)号: CN101827958A公开(公告)日: 2010-09-08
- 发明人: 古曳伦也 , 道下尚则 , 牧野修仁
- 申请人: 日矿金属株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 日矿金属株式会社
- 当前专利权人: JX日矿日石金属株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理商 王海川; 穆德骏
- 优先权: 2007-270935 2007.10.18 JP
- 国际申请: PCT/JP2008/066645 2008.09.16
- 国际公布: WO2009/050971 JA 2009.04.23
- 进入国家日期: 2010-04-16
- 主分类号: C25D7/00
- IPC分类号: C25D7/00 ; B32B15/08 ; B32B15/088 ; C23C28/02 ; C25D5/56 ; C25D7/06 ; H05K3/38
摘要:
本发明的目的在于提供金属包覆的聚酰亚胺复合体、该复合体的制造方法以及电子电路板的制造方法,所述金属包覆的聚酰亚胺复合体具有通过非电解镀敷或干式法形成于聚酰亚胺膜的表面上的连接层及金属种层、和进一步通过电镀形成于其上的铜或铜合金层,其中,所述铜或铜合金镀敷层具备3层~1层的铜或铜合金层,在铜或铜合金层为3层~2层的情况下,在该铜或铜合金层的边界具有杂质富集部,在铜或铜合金层为1层的情况下,不具有杂质富集部。所述金属包覆的聚酰亚胺复合体、该复合体的制造方法以及电子电路板的制造方法可以防止无粘接剂挠性层压板(特别是双层挠性层叠体)的剥离、特别是可以有效地抑制从铜层和镀锡的界面剥离。