Invention Publication
- Patent Title: 一种校对真空设备温度均匀性的方法
- Patent Title (English): Method for calibrating temperature uniformity of vacuum equipment
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Application No.: CN200810246545.5Application Date: 2008-12-25
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Publication No.: CN101762340APublication Date: 2010-06-30
- Inventor: 古宏伟 , 屈飞 , 杨发强 , 杜风贞
- Applicant: 北京有色金属研究总院
- Applicant Address: 北京市新街口外大街2号
- Assignee: 北京有色金属研究总院
- Current Assignee: 有研工程技术研究院有限公司
- Current Assignee Address: 北京市新街口外大街2号
- Agency: 北京众合诚成知识产权代理有限公司
- Agent 童晓琳
- Main IPC: G01K7/02
- IPC: G01K7/02

Abstract:
本发明公开了属于校对设备温度均匀性技术领域的一种校对真空设备温度均匀性的方法。将测温区划分成小区域;选择一种金属,制备标准试样;将标准试样放置在加热器中待测区域内,抽真空,加热,当观察到标准试样熔化时,读取热电偶示数T1,随后将标准试样冷却;设定升温速率,观察标准试样状态,当标准试样熔化时读取热电偶示数T0;将标准试样放置在其他待测区域内,设定升温速率,读取热电偶读数,得到设备温度偏差。本发明将测温区域划分成若干小区域,然后利用晶体熔点固定这一晶体物理特性,分别测量每个小区域晶体标准试样熔点的方法,提供一种准确校对真空设备温度均匀性的方法。
Public/Granted literature
- CN101762340B 一种校对真空设备温度均匀性的方法 Public/Granted day:2011-11-09
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