发明授权
- 专利标题: 场效应晶体管
- 专利标题(英): Field-effect transistor
-
申请号: CN200910165165.3申请日: 2003-07-31
-
公开(公告)号: CN101667624B公开(公告)日: 2011-08-17
- 发明人: 小桥昌浩 , 半田敬信 , 荒牧晋司 , 酒井良正
- 申请人: 三菱化学株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 三菱化学株式会社
- 当前专利权人: 三菱化学株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 张平元
- 优先权: 223021/02 2002.07.31 JP
- 分案原申请号: 03817832X 2003.07.31
- 主分类号: H01L51/05
- IPC分类号: H01L51/05 ; H01L51/30
摘要:
优化支撑性基板的机械特性与有机场效应晶体管的绝缘体层,由此在有机场效应晶体管中获得高迁移率,高导通电流和低漏电流,以及高电流开/关比。场效应晶体管包括提供于支撑性基板(1)上的绝缘体层(3),被绝缘体层(3)隔开的栅电极(2)和有机半导体层(4),如此布置使之与有机半导体层(4)接触的源电极(5)和漏电极(6),其中在绝缘体层屈服点的伸长率ε1(%)大于在支撑性基板屈服点的伸长率ε2(%)。所提供的良好柔韧性,可以限制为减小漏电流而施加的应力可能导致的裂缝,进而获得高迁移率,高导通电流和低漏电流,以及高电流开/关比。
公开/授权文献
- CN101667624A 场效应晶体管 公开/授权日:2010-03-10
IPC分类: