发明授权
CN101565829B 使用臭氧反应气体形成贵金属层的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 使用臭氧反应气体形成贵金属层的方法
- 专利标题（英）： Method for forming noble metal layer using ozone reaction gas
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申请号： CN200910001299.1申请日： 2009-01-16
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公开(公告)号： CN101565829B公开(公告)日： 2011-09-28
- 发明人: 吉德信 , 李起正 , 金荣大 , 金珍赫 , 都官佑 , 朴京雄 , 李正烨 , 金慈容
- 申请人： 海力士半导体有限公司
- 申请人地址： 韩国京畿道利川市
- 专利权人： 海力士半导体有限公司
- 当前专利权人： 海力士半导体有限公司
- 当前专利权人地址： 韩国京畿道利川市
- 代理机构： 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 刘继富; 顾晋伟
- 优先权： 10-2008-0036612 2008.04.21 KR; 10-2008-0097350 2008.10.02 KR
- 主分类号： C23C30/00
- IPC分类号： C23C30/00 ; C23C16/455
摘要：
本发明涉及使用臭氧反应气体形成贵金属的方法，其中使用臭氧(O3)作为反应气体形成贵金属层。
公开/授权文献
- CN101565829A 使用臭氧反应气体形成贵金属层的方法 公开/授权日：2009-10-28
IPC分类:
