发明公开
CN101541865A 薄膜及其制造方法
无效 - 驳回
- 专利标题: 薄膜及其制造方法
- 专利标题(英): Film and method for production thereof
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申请号: CN200880000625.0申请日: 2008-08-01
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公开(公告)号: CN101541865A公开(公告)日: 2009-09-23
- 发明人: 山下裕司 , 清水健司 , 大前通宏 , 吉良隆一
- 申请人: 日东电工株式会社
- 申请人地址: 日本大阪府
- 专利权人: 日东电工株式会社
- 当前专利权人: 日东电工株式会社
- 当前专利权人地址: 日本大阪府
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 李贵亮
- 优先权: 209962/2007 2007.08.10 JP
- 国际申请: PCT/JP2008/063834 2008.08.01
- 国际公布: WO2009/022550 JA 2009.02.19
- 进入国家日期: 2009-02-23
- 主分类号: C08J7/00
- IPC分类号: C08J7/00 ; G02B5/30
摘要:
本发明提供一种已实施不会使薄膜断裂的刻痕(knurling)加工的薄膜及其制造方法。本发明中的薄膜的特征在于,利用激光照射,在高分子树脂薄膜的至少任意一面的宽度方向的两端部,实施刻痕加工从而构成。