发明授权
- 专利标题: 一种阴极旋转水热电泳沉积制备硅酸钇涂层的方法
- 专利标题(英): Method for preparing yttrium silicate coat by cathode rotation hydrothermal electrophoretic deposition
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申请号: CN200910021216.5申请日: 2009-02-20
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公开(公告)号: CN101514473B公开(公告)日: 2010-12-29
- 发明人: 黄剑锋 , 王雅琴 , 曹丽云 , 杨强 , 夏昌奎 , 殷立雄 , 卢靖 , 吴建鹏
- 申请人: 陕西科技大学
- 申请人地址: 陕西省西安市未央区大学园陕西科技大学
- 专利权人: 陕西科技大学
- 当前专利权人: 陕西科技大学
- 当前专利权人地址: 陕西省西安市未央区大学园陕西科技大学
- 代理机构: 西安通大专利代理有限责任公司
- 代理商 张震国
- 主分类号: C25D13/02
- IPC分类号: C25D13/02 ; C04B41/87
摘要:
一种阴极旋转水热电泳沉积制备硅酸钇涂层的方法,采用阴极旋转水热电泳沉积法在碳/碳-碳化硅复合材料表面制备硅酸钇抗氧化外涂层,利用硅酸钇粉体为原料,按照一定的粉料配比,在一定的温度和电压下,不同的阴极旋转速度可分别制备出结构致密的、具有显微裂纹的、不同厚度的硅酸钇涂层。这种方法的优点是工艺控制简单,涂层均匀,一定程度上避免重复操作,可用于表面复杂产品,而且在低温下可获得结构可控且性能良好的硅酸钇涂层。
公开/授权文献
- CN101514473A 一种阴极旋转水热电泳沉积制备硅酸钇涂层的方法 公开/授权日:2009-08-26