发明授权
- 专利标题: 氮化物半导体装置及其制造方法
- 专利标题(英): Nitride semiconductor device and method of manufacturing the same
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申请号: CN200810178809.8申请日: 2008-12-01
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公开(公告)号: CN101447468B公开(公告)日: 2011-01-12
- 发明人: 盐泽胜臣 , 金本恭三 , 大石敏之 , 黑川博志 , 大塚健一 , 樽井阳一郎 , 德田安纪
- 申请人: 三菱电机株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 三菱电机株式会社
- 当前专利权人: 三菱电机株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 闫小龙; 蒋骏
- 优先权: 2007-309756 2007.11.30 JP
- 主分类号: H01L23/48
- IPC分类号: H01L23/48 ; H01L21/28 ; H01L33/00 ; H01S5/00
摘要:
本发明提供具有在电极间不产生电阻成分的p电极的氮化物半导体装置及其制造方法。p电极(12)由第一Pd膜(13)、Ta膜(14)和防止Ta膜(14)氧化的作为防氧化膜的第二Pd膜(15)构成,并且形成在由氮化物半导体构成的p型接触层(11)上。在该第二Pd膜(15)上形成焊盘电极(22)。作为防氧化膜的第二Pd膜(15)形成在构成p电极(12)的Ta膜(14)上部的整个面上,并且由于可以由该第二Pd膜(15)防止Ta膜(14)被氧化,所以能够抑制在p电极(12)和焊盘电极(22)之间产生的电阻成分。由此,由于能够防止p电极(12)和焊盘电极(22)之间的接触不良,所以,能够实现低电阻的p电极(12)。
公开/授权文献
- CN101447468A 氮化物半导体装置及其制造方法 公开/授权日:2009-06-03
IPC分类: