氮化物半导体装置及其制造方法
摘要:
本发明提供具有在电极间不产生电阻成分的p电极的氮化物半导体装置及其制造方法。p电极(12)由第一Pd膜(13)、Ta膜(14)和防止Ta膜(14)氧化的作为防氧化膜的第二Pd膜(15)构成,并且形成在由氮化物半导体构成的p型接触层(11)上。在该第二Pd膜(15)上形成焊盘电极(22)。作为防氧化膜的第二Pd膜(15)形成在构成p电极(12)的Ta膜(14)上部的整个面上,并且由于可以由该第二Pd膜(15)防止Ta膜(14)被氧化,所以能够抑制在p电极(12)和焊盘电极(22)之间产生的电阻成分。由此,由于能够防止p电极(12)和焊盘电极(22)之间的接触不良,所以,能够实现低电阻的p电极(12)。
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