Invention Grant
CN1013906B 用光照制造超导图形的方法
失效 - 权利终止
- Patent Title: 用光照制造超导图形的方法
- Patent Title (English): METHOD OF MANUFACTURING SUPERCONDUCTING PATTERN BY LIGHT IRRADIATION
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Application No.: CN88101989Application Date: 1988-04-07
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Publication No.: CN1013906BPublication Date: 1991-09-11
- Inventor: 山崎舜平
- Applicant: 株式会社半导体能源研究所
- Applicant Address: 日本神奈川县厚木市
- Assignee: 株式会社半导体能源研究所
- Current Assignee: 株式会社半导体能源研究所
- Current Assignee Address: 日本神奈川县厚木市
- Agency: 中国专利代理有限公司
- Agent 肖掬昌; 肖春京
- Priority: 86494/87 1987.04.07 JP
- Main IPC: H01B12/02
- IPC: H01B12/02 ; H01F5/08 ; H01L39/12 ; H01L39/24
Abstract:
用溅射法在衬底上淀积超导陶瓷薄膜，借助于陶瓷的低导热率，用激光束照射陶瓷薄膜，以通过升华除去受照射的部分，从而在陶瓷薄膜上形成图形。
Public/Granted literature
- CN88101989A 用光照制造超导图形的方法 Public/Granted day:1988-10-26
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