- 专利标题: 一种选择性去除卷烟烟气中TSNA的分子印迹材料及其制备和应用方法
- 专利标题(英): Molecular engram material selectively removing TSNA in cigarette flue gas, preparation and application method thereof
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申请号: CN200810143063.7申请日: 2008-10-08
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公开(公告)号: CN101366551B公开(公告)日: 2010-11-17
- 发明人: 陈潜 , 银董红 , 金勇 , 李克
- 申请人: 湖南中烟工业有限责任公司
- 申请人地址: 湖南省长沙市雨花区万家丽中路三段188号
- 专利权人: 湖南中烟工业有限责任公司
- 当前专利权人: 湖南中烟工业有限责任公司
- 当前专利权人地址: 湖南省长沙市雨花区万家丽中路三段188号
- 代理机构: 长沙市融智专利事务所
- 代理商 颜勇
- 主分类号: A24B15/16
- IPC分类号: A24B15/16 ; A24D3/14 ; A24D1/18 ; C08F292/00 ; C08F2/00 ; C08J9/26
摘要:
本发明公开了一种选择性去除卷烟烟气中TSNA的分子印迹材料及其制备和应用方法。分子印迹材料的制备步骤如下:在合成分子印迹材料其前,先将硅胶活化、硅烷化;然后将功能单体溶解于致孔剂中,加入交联剂,引发剂,硅烷化硅胶,使之在真空下反应;接着利用化学或者物理方法将模板分子从硅胶表面高分子材料中移去。在聚合物中形成了与模板分子空间匹配,具有特异性排列的多重作用位点的大量空穴,这样的空穴对TSNA分子具有高效选择性。本发明物用于卷烟烟气选择性降害时最好能够应用于复合嘴棒中,其添加量可以根据需要任意调节。将本发明物以40mg/支添加到嘴棒中能够在不影响烟气其它组分的情况下降低烟气中TSNA含量25.1%,从而达到选择性降害的目的。
公开/授权文献
- CN101366551A 一种选择性去除卷烟烟气中TSNA的分子印迹材料及其制备和应用方法 公开/授权日:2009-02-18