发明授权
CN101261331B 基于纳米压印技术的自支撑透射金属光栅制备方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 基于纳米压印技术的自支撑透射金属光栅制备方法
- 专利标题(英): Self-supporting transmission metal grating based on nanometer stamping technology and its preparation method
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申请号: CN200810023911.0申请日: 2008-04-21
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公开(公告)号: CN101261331B公开(公告)日: 2010-07-07
- 发明人: 袁长胜 , 袁远 , 陈明 , 李志炜 , 葛海雄 , 祝明伟 , 陈延峰
- 申请人: 南京大学
- 申请人地址: 江苏省南京市鼓楼区汉口路22号
- 专利权人: 南京大学
- 当前专利权人: 南京大学
- 当前专利权人地址: 江苏省南京市鼓楼区汉口路22号
- 代理机构: 南京天翼专利代理有限责任公司
- 代理商 汤志武; 朱戈胜
- 主分类号: G02B5/18
- IPC分类号: G02B5/18 ; G03F7/00
摘要:
本发明涉及一种基于纳米压印技术制备的,用于深紫外线、软X射线和物质粒子衍射的高密度、自支撑透射金属光栅,金属光栅的线密度>2000条/毫米,光栅无衬底支撑,光栅金属线条间是镂空的,金属线条由足够强度、较大周期(1~40微米)的金属网络结构支撑,构成光栅的金属材料是金。其制作步骤:1)纳米压印技术、反应离子刻蚀工艺、电化学镀膜工艺在衬底上制备高密度金属光栅;2)光刻工艺和电化学镀膜工艺制备大周期金属网络支撑结构;3)化学刻蚀方法除去衬底使光栅镂空;4)聚焦离子束技术对透射光栅在制作过程中产生的局部缺陷进行修复。本发明以纳米压印技术制备光栅结构,制作方法便捷可靠、大幅度降低了制作成本。
公开/授权文献
- CN101261331A 基于纳米压印技术的自支撑透射金属光栅及制备方法 公开/授权日:2008-09-10