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发明授权
CN101223297B 用于容器上内屏障层的PECVD沉积且包括光学等离子体分析器件的装置 失效 - 权利终止

  • 专利标题： 用于容器上内屏障层的PECVD沉积且包括光学等离子体分析器件的装置
  • 专利标题（英）： Apparatus for the PECVD deposition of an inner barrier layer on a container, comprising an optical plasma analysis device
  • 申请号： CN200680025484.9
    申请日： 2006-07-12
  • 公开(公告)号： CN101223297B
    公开(公告)日： 2010-09-22
  • 发明人: 让-米歇尔·鲁斯 , 盖伊·福伊尔奥利
  • 申请人： 西得乐公司
  • 申请人地址： 法国奥科特维尔
  • 专利权人： 西得乐公司
  • 当前专利权人： 西得乐公司
  • 当前专利权人地址： 法国奥科特维尔
  • 代理机构： 北京律诚同业知识产权代理有限公司
  • 代理商 徐金国; 梁挥
  • 优先权： 0507555 2005.07.13 FR
  • 国际申请： PCT/FR2006/001703 2006.07.12
  • 国际公布： WO2007/006977 FR 2007.01.18
  • 进入国家日期： 2008-01-11
  • 主分类号： C23C16/04
  • IPC分类号： C23C16/04 ;  C23C16/52
用于容器上内屏障层的PECVD沉积且包括光学等离子体分析器件的装置
摘要：
一种用于在容器(3)中PECVD沉积屏障效应材料的薄层的装置(1)，该装置包含：容纳容器(3)的结构(5)，所述结构(5)限定等离子体存在区域(18)，所述结构(5)配置有孔(14)，该孔限定轴(A1)并具有开放到所述等离子体存在区域(18)中的内侧开口(15)，以及开放到所述区域(18)外侧的外侧开口(16)；电磁波产生器；以及光学等离子体监控器件(19)，其包含放置在所述孔的轴(A1)上的所述等离子体存在区域(18)外侧的采集器(21)。
摘要（英）：

The invention relates to an apparatus (1) for the PECVD deposition of a thin layer of a material having a barrier effect in a container (3), comprising: a housing (5) for the container (3), which defines a plasma zone (18) and which is equipped with a hole (14) defining an axis (A1) and having an inner opening (15) which opens into the plasma zone (18) and an outer opening (16) which opens outside said zone (18); an electromagnetic wave generator; and an optical plasma control device (19) comprising a sensor (21) which is placed outside the plasma zone (18) in the axis (A1) of the hole (14).

公开/授权文献
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