Invention Grant
- Patent Title: 双极器件、晶体管及它们的形成方法
- Patent Title (English): Method for forming substrate in bicmos technology
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Application No.: CN200580011225.6Application Date: 2005-04-06
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Publication No.: CN101076896BPublication Date: 2011-07-13
- Inventor: 彼得·J.·杰斯 , 埃尔文·J.·约瑟夫 , 刘奇志 , 布拉德利·A.·奥纳
- Applicant: 国际商业机器公司
- Applicant Address: 美国纽约
- Assignee: 国际商业机器公司
- Current Assignee: 厄尔庇斯技术公司
- Current Assignee Address: 美国纽约
- Agency: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- Agent 王永刚
- Priority: 10/709,113 2004.04.14 US
- International Application: PCT/US2005/011711 2005.04.06
- International Announcement: WO2005/104680 EN 2005.11.10
- Date entered country: 2006-10-13
- Main IPC: H01L31/072
- IPC: H01L31/072

Abstract:
公开了一种双极互补金属氧化物半导体(BiCMOS)或NPN/PNP器件,具有集电极(112)、集电极上方的本征基底(118)、与集电极相邻的浅沟槽隔离区(114)、本征基底上方的升高的非本征基底(202)、非本征基底上方的T形发射极(800)、与发射极相邻的隔层(700)、以及由隔层与发射极隔开的硅化物(400)层。
Public/Granted literature
- CN101076896A 在BICMOS工艺中基底形成的方法 Public/Granted day:2007-11-21
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IPC分类: