发明授权
CN101000821B 一种闭合形状的磁性多层膜及其制备方法和用途
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种闭合形状的磁性多层膜及其制备方法和用途
- 专利标题(英): Close-shaped magnetic multi-layer film and preparation method and use thereof
-
申请号: CN200610011166.9申请日: 2006-01-11
-
公开(公告)号: CN101000821B公开(公告)日: 2010-05-12
- 发明人: 姜丽仙 , 马明 , 韩宇男 , 覃启航 , 魏红祥 , 韩秀峰
- 申请人: 中国科学院物理研究所
- 申请人地址: 北京市海淀区中关村南三街8号
- 专利权人: 中国科学院物理研究所
- 当前专利权人: 中国科学院物理研究所
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区中关村南三街8号
- 代理机构: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司
- 代理商 高存秀
- 主分类号: H01F10/32
- IPC分类号: H01F10/32 ; H01F10/12 ; H01F41/14 ; H01L43/08 ; H01L43/12 ; G11C11/16 ; G11B5/39
摘要:
本发明涉及一种闭合形状的磁性多层膜,其特征在于:所述的磁性多层膜的横截面呈闭合的矩形环或者椭圆环,其中矩形内环的宽度为10~100000nm,矩形外环的宽度为20~200000nm,矩形内环的宽度与长度的比值为1∶1~5;椭圆内环的短轴为10~100000nm,短轴与长轴的比值为1∶1.1~5,椭圆外环的短轴为20~200000nm。按照形成的材料分类,本发明的磁性多层膜包括无钉扎型闭合形状的磁性多层膜和钉扎型闭合形状的磁性多层膜,其可以通过微加工方法来制备。本发明的闭合形状的磁性多层膜无退磁场,形状各向异性微弱,能够广泛应用于以磁性多层膜为核心的各种器件,例如,磁性随机存取存储器,计算机磁头,磁敏传感器等。
公开/授权文献
- CN101000821A 一种闭合形状的磁性多层膜及其制备方法和用途 公开/授权日:2007-07-18