发明授权
CN100379896C 化学处理方法和化学处理装置
失效 - 权利终止
- 专利标题： 化学处理方法和化学处理装置
- 专利标题（英）： Chemical processing method and chemical processing device
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申请号： CN03154639.0申请日： 2003-08-21
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公开(公告)号： CN100379896C公开(公告)日： 2008-04-09
- 发明人: 山本充彦 , 米村正雄 , 泽泻由果 , 前原智子
- 申请人： 卡西欧迈克罗尼克斯株式会社 , 村田株式会社
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 卡西欧迈克罗尼克斯株式会社,村田株式会社
- 当前专利权人： 卡西欧迈克罗尼克斯株式会社,村田株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 于辉
- 优先权： 240452/2002 2002.08.21 JP
- 主分类号： C23F1/00
- IPC分类号： C23F1/00 ; H05K3/06
摘要：
本发明的化学处理装置是装置(30)，在待成膜的材料(C1)上形成的铬膜被该装置刻蚀成预定图案。这一装置包括：阴极电解还原设备(31)，用于使用含有氯离子的处理溶液对作为阴极的铬膜进行电解还原处理，和酸浸泡设备(33)，用于在由阴极电解还原设备(31)进行电解还原处理之后将铬膜浸泡在酸性处理溶液中。
公开/授权文献
- CN1495292A 化学处理方法和化学处理装置 公开/授权日：2004-05-12
